
產(chǎn)品分類
products category
相關(guān)文章
Related articles
產(chǎn)品中心/ products
X熒光射線膜厚分析儀
產(chǎn)品型號:EDX600 PRO X無損測厚
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
更新時間:2026-03-06
訪 問 量:11
立即咨詢
聯(lián)系電話:0134-0510-0207
1.分析元素范圍:硫(S)~鈾(U);
2.同時檢測元素:多24個元素,多達5層鍍層;
3.分析含量:一般為2ppm到99.9%;
4.鍍層厚度:一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同);
5.SDD探測器:分辨率低至135eV;
6.的微孔準(zhǔn)直技術(shù):小孔徑達0.1mm,小光斑達0.1mm;
7.樣品觀察:配備全景和部兩個工業(yè)高清攝像頭;
8.準(zhǔn)直器:0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與Ф0.3mm四種準(zhǔn)直器組合;
9.儀器尺寸:690(W)x 575(D)x 660(H)mm;
10.樣品室尺寸:520(W)x 395(D)x150(H)mm;
11.樣品臺尺寸:393(W)x 258 (D)mm;
12.X/Y/Z平臺移動速度:額定速度200mm/s 速度333.3mm/s;
13.X/Y/Z平臺重復(fù)定位精度:小于0.1um;
隨著技術(shù)的日益進步,特別是近年來引入微機技術(shù)后,采用X射線鍍層測厚儀 向微型、智能、多功能、高精度、實用化的方向進了一步。
應(yīng)用領(lǐng)域
電鍍行業(yè)
五金衛(wèi)浴
電子電器
磁性材料
航天新能源
汽車制造
貴金屬鍍飾......
五金電鍍層膜厚儀設(shè)計亮點
全新的下照式設(shè)計,一鍵式的按鈕,讓您的鼠標(biāo)鍵盤不再成為必須,極大減少您擺放樣品的時間。
全新的光路系統(tǒng),大大減少了光斑的擴散,實現(xiàn)了對更小產(chǎn)品的測試。
搭配高分辨率可變焦攝像頭,配合高性能距離補正算法,實現(xiàn)了對不規(guī)則樣品(如凹凸面,拱形,螺紋,曲面等)的異型測試面的精準(zhǔn)測試。
硬件配置
采用高分辨率的SDD探測器,分辨率高達140EV進口的大功率高壓,讓Ag,Sn等鍍層的測量能更加穩(wěn)定。
配備微聚焦的X光管,猶如給發(fā)動機增加了渦輪增壓,讓數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性更上層樓。
多種準(zhǔn)直器可搭配選擇:0.1*0.2mm;Φ0.15mm;Φ0.2mm;Φ0.3mm。貼心打造出適合您的那一款。

這是一款X射線熒光光譜儀原理的金屬鍍層測厚分析儀,滿足鍍金,鍍銀,鍍鎳,鍍錫,鍍鉻,鍍鋅,鍍銅等膜厚分析。
產(chǎn)品優(yōu)勢和特點
*超高分辨率、超清攝像頭、超便捷操作、超快檢測速度、超人性化界面
*易于使用,一鍵操作,即可獲得鍍層厚度及組成成份的分析結(jié)果
*有助于識別鍍層成分的創(chuàng)新型功能
*機身結(jié)構(gòu)小巧結(jié)實,外形十分漂亮,適合放置于陳列展室
*按下按鈕的數(shù)秒之內(nèi),即可得到有關(guān)樣件鍍層厚度的精確結(jié)果
*使用PC機和軟件,可以迅速方便地制作樣件的檢驗結(jié)果證書
*用戶通過攝像頭及艙內(nèi)照明系統(tǒng),可看到樣件測試位置,提升了用戶測試信心
*Thick系列分析儀測試數(shù)據(jù)可以下載和上傳網(wǎng)絡(luò),檢測結(jié)果易于查看和分享
*有X射線防護鎖,只有在封閉狀態(tài)下才發(fā)射X射線,安全、可靠的保證客戶使用

XRF鍍層測厚儀俗稱X射線熒光測厚儀、鍍層測厚儀、膜厚儀、膜厚測試儀、金鎳厚測試儀、電鍍膜厚儀等,主要用于精密測量金屬電鍍層的厚度。
XRF鍍層測厚儀:俗稱X射線熒光測厚儀、鍍層測厚儀、膜厚儀、膜厚測試儀、金鎳厚測試儀、電鍍膜厚儀等;功能:精密測量金屬電鍍層的厚度;應(yīng)用范圍:測量鍍層,涂層,薄膜,液體的厚度或組成,測量范圍從22(Ti)到92(U);5 層 (4 鍍層 + 基材) / 15 元素 / 共存元素校正;元素光譜定性分析;測試方法面符合 ISO 3497, ASTM B568 和DIN 50987應(yīng)用群體主要集中在:電路板、端子連接器、LED、半導(dǎo)體、衛(wèi)浴潔具、五金電鍍、珠寶首飾、汽車配件、檢測機構(gòu)以及研究所和高等院校等;原理:X射線熒光什么是X射線?X射線存在于電磁波譜中的個特定區(qū)域,它由原子內(nèi)部電子躍遷產(chǎn)生,其波長范圍在0.1-100?;能量大于100電子伏特.什么是X射線熒光?X射線熒光 是個原子或分子吸收了特定能量的光子后釋放出較低能量的光子的過程。

XRF鍍層分析儀硬件性能及優(yōu)勢
元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)
同時可以分析幾十種以上元素,五層鍍層
分析檢出限可達2ppm,鍍層分析可以分析0.005um厚度樣品
分析含量一般為ppm到99.9% 。
鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)
任意多個可選擇的分析和識別模型。
相互獨立的基體效應(yīng)校正模型。
多變量非線性回收程序
多次測量重復(fù)性可達0.1%
長期工作穩(wěn)定性可達0.1%
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。
儀器配置
高壓電源 0 ~ 50KV
光管管流 0μA ~ 1000μA
數(shù)字多道分析器
攝像頭
濾光片可選擇多種定制切換
美國進口半導(dǎo)體探測器
測試時間可調(diào) 10sec ~ 100sec
儀器環(huán)境要求
環(huán)境溫度 15°C ~ 30°C
相對濕度 35% ~ 70%,電源要求 AC 220V±5V, 50/60HZ
X熒光射線膜厚分析儀
返回列表
掃碼